Технический директор Intel Джастин Рэттнер 4 декабря заявил, что разработка Intel 14-нм техпроцесса ведётся согласно графику, и к массовому производству компания приступит через 2 года. Кроме того, в настоящее время ведётся разработка 18-дюймовых плат в сотрудничестве с партнёрами. Об этом пишет Digitimes.

Рэттнер также отметил, что агрессивная политика Intel по усовершенствованию технологии позволит продлить действие закона Мура ещё на 10 лет.

К концу 2013 года Intel приступит к созданию чипа по 14-нм техпроцессу (P1272) и однокристальных систем (1273), одновременно с этим увеличивая инвестиции в свою кремниевую мастерскую D1X в Орегоне, 42 в Аризоне, а также в мастерскую 24 в Ирландии, и постепенно начнёт выходить на 10-, 7- и 5-нм техпроцессы, начиная с 2015 года.

Что касается конкурентов Intel, Samsung наметила выход на 20-нм техпроцесс в 2013 году, и уже работает над своим 14-нм узлом, в то время как 20-нм техпроцесс Taiwan Semiconductor Manufacturing Company будет использоваться для ограниченного выпуска во второй половине 2013 года, и тогда же запланирован запуск производства первых чипов FPGA на основе 3D.

Globalfoundries ранее объявляла о том, что опытное производство по её 14-нм техпроцессу FinFET начнётся в конце 2013 года, а выход на массовое производство ожидается в 2014 году.